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Browsing bySubjectdeep UV resists

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1992-01A new chemical amplification resist system based on novolac and t-BOC protected phosphazene as a dissolution inhibitorAhn, K.-D.; Kang, J.-H.; Kim, S.-J.; Park, B.-S.; Park, C.-E.; Park, C.-G.
1994-07화학증폭을 이용한 원자외선용 포지티브 레지스트의 표면 불용성 억제양승관; 박찬언; 강종희; 안광덕
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