그라인딩 공정과 선택적 습식 식각 공정을 이용한 단결정 실리콘 표면의 반사율에 관한 연구

Other Titles
A study of Reflectance of Textured Crystalline Si Surface Fabricated by using Preferential Aqueous Etching and Grinding Processes
Authors
우태기김영환안효석김성일
Issue Date
2009-09
Publisher
한국마이크로전자및패키징학회
Citation
마이크로전자 및 패키징학회지, v.16, no.3, pp.61 - 65
Abstract
단결정 실리콘 웨이퍼 위에 그라인딩 공정을 사용하여 인위적으로 결정학적 결함을 만들고 선택적 습식 식 각 공정을 통하여 반사율을 저감시켜 태양전지에 적용할 수 있는 새로운 표면 조직을 형성하였다. 식각 용액의 농도와 식 각 시간에 따른 표면 형태의 변화를 분석하고 그에 따른 표면의 광학적 반사율의 변화를 측정하였다. 결정학적 결함 분 석과 표면 형태의 관찰은 각각 투과전자 현미경과 주사전자현미경을 이용하였고 광학적 특성은 spectrophotometer를 이 용하여 분석하였다. 상기 방법에 의한 최적화된 실리콘 표면의 반사율은 평균 1% 이하의 우수한 결과를 보였으며 짧은 공정시간 및 가격효율성 면에서 효과적인 제조 방법이라고 사료된다.
Keywords
Si solar cells; texturing; grinding; etching
ISSN
1226-9360
URI
https://pubs.kist.re.kr/handle/201004/132173
Appears in Collections:
KIST Article > 2009
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