Pulse Plasma Assisted Atomic Layer deposition 장치의 제작과 특성

Title
Pulse Plasma Assisted Atomic Layer deposition 장치의 제작과 특성
Authors
김용태박지호김희준이창우
Issue Date
2005-09
Publisher
한국 반도체 및 디스플레이 장비 학회 2005년도 추계학술대회
URI
http://pubs.kist.re.kr/handle/201004/28382
Appears in Collections:
KIST Publication > Conference Paper
Files in This Item:
There are no files associated with this item.
Export
RIS (EndNote)
XLS (Excel)
XML


qrcode

Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.

BROWSE