저배위 실리콘 화학종의 합성과 반응성 응용

Title
저배위 실리콘 화학종의 합성과 반응성 응용
Authors
한준수
Keywords
silicon; silylene; disilene; disilyne; silylenoid
Issue Date
2013-04
Publisher
제111회 대한화학회 학술발표회
Abstract
Si-Si 간의 이중결합, 삼중결합 및 carbene의 유사체인 silylene과 같은 저배위 실리콘 화학종은 실리콘 화합물의 직접합성, 열분해 반응 및 기상법에 의한 박막형성 과정 등의 중간체로 제안되어 왔으나 고반응성 및 불안정성으로 인하여 그 확인이 불가능했었다. 따라서 입체장해가 큰 치환체를 도입하는 방법으로 실온에서 안정한 저배위 실리콘 화학종을 합성하여 그 반응성 및 특성을 연구하고 있다. 본 발표에서는 실온에서 안정한 Si- Si 간의 이중결합, 삼중결합의 저배위 실리콘 화학종의 합성방법과 그 특성 및 반응성에 관한 결과를 보고하고자 한다.
URI
http://pubs.kist.re.kr/handle/201004/44756
Appears in Collections:
KIST Publication > Conference Paper
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