플라즈마 이온주입 장치 및 방법

Title
플라즈마 이온주입 장치 및 방법
Authors
문선우박원웅전준홍최진영한승희
Issue Date
2011-09-08
Publisher
한국과학기술연구원
Abstract
상온에서 고체 상태로 존재하는 원소의 이온을 낮은 공정 압력에서 시료의 표면에 효율적으로 이온주입할 수 있는 플라즈마 이온주입 장치 및 방법을 제공한다. 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 이온주입 장치는 내부가 진공 상태를 유지하는 진공조, 진공조에 결합되어 진공조 내부에 펄스 플라즈마를 발생하는 마그네트론 증착원, 진공조 내에서 마그네트론 증착원에 대향하는 위치에 설치되어 시료가 장착되는 전도성 시료 장착대, 및 입력되는 펄스 직류전력와 RF전력을 결합하여 마그네트론 증착원에 RF전력과 펄스 직류전력이 중첩된 RF-DC 결합전력을 공급하는 RF-DC 결합부를 포함한다.
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KIST Patent > 2011
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