마스크 패턴 검사용 3차원 영상 획득 시스템 및 그 방법

Title
마스크 패턴 검사용 3차원 영상 획득 시스템 및 그 방법
Authors
김선호김재헌박민철우덕하이석이택진장지웅전영민황정민
Issue Date
2011-08-10
Publisher
한국과학기술연구원
Abstract
본 발명은 마스크 패턴 검사용 3차원 영상 획득 시스템 및 그 방법에 관한 것으로, 극자외선(Extreme Ultra-Violet, EUV)을 방사하는 광원부와, 상기 광원부로부터 방사된 극자외선을 반사하여 집광하는 오목거울과, 상기 오목거울에 의해 집광된 극자외선을 측정대상 마스크를 향하여 반사하는 반사거울과, 상기 측정대상 마스크를 안착시키는 스테이지와, 상기 스테이지의 일측에 구비되며, 상기 측정대상 마스크의 전체 이미지를 스캔할 수 있도록 상기 스테이지를 X축, Y축 및 Z축 방향으로 이동시키기 위한 이동수단과, 상기 측정대상 마스크의 3차원 높이 정보를 획득할 수 있도록 상기 스테이지의 X축 및 Y축 중 적어도 하나의 축을 기준으로 일정각도 좌/우측 방향으로 틸팅(tilting)시키기 위한 틸팅수단과, 상기 측정대상 마스크로부터 반사된 회절 이미지를 획득하는 CCD(Charged Coupled Device) 카메라와, 상기 CCD 카메라로부터 획득된 회절 이미지를 역 고속 퓨리에 변환(Inverse Fast Fourier Transform, IFFT)을 수행하여 상기 측정대상 마스크의 패턴 이미지를 복원함과 아울러 상기 이동수단 및 상기 틸팅수단의 동작을 제어하기 위한 구동제어신호를 출력하는 제어장치를 포함함으로써, 극자외선(EUV) 광원으로 만들어진 차세대 반도체 공정에서 사용되는 3차원 구조의 마스크 패턴에 존재하는 미세 결함(Defect) 등을 효과적으로 검사할 수 있다.
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KIST Patent > 2011
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