구형 산화물 입자 배열시 결함 발생을 감소시키는 방법

Title
구형 산화물 입자 배열시 결함 발생을 감소시키는 방법
Authors
박수영박종구조소혜최벽파
Issue Date
2010-04-30
Publisher
한국과학기술연구원
Abstract
본 발명은 구형 산화물 입자를 상온보다 높은 온도에서 가열처리하는 것을 포함하는 구형 산화물 입자의 처리 방법에 관한 것으로, 졸겔법으로 합성한 구형 산화물 입자, 구체적으로는 실리카 입자를 가열처리하여 규칙적인 배열시의 결함발생을 감소시킴으로써, 실리카 입자의 체적 안정성을 높이는 것을 목적으로 한다. 본 발명에 따라 제작된 구조적 결함이 적은 실리카 층은 물리적 안정성이 높고, 넓은 영역에 걸쳐 결정성이 유지되므로, 광반사층, 광도파로 등 광학특성이 우수한 광결정을 필요로 하는 영역에까지 응용될 수 있다.
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Appears in Collections:
KIST Patent > 2010
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