실리콘 나노선 제조 방법

Title
실리콘 나노선 제조 방법
Authors
김상헌김성일김영환김용태김춘근
Issue Date
2010-03-05
Publisher
한국과학기술연구원
Abstract
유도 결합형 플라즈마의 반응성 이온 식각 장비를 이용한 원스톱 공정에 의한 하향식 실리콘 나노선 제조 방법이 개시된다. 상기 실리콘 나노선 제조 방법은 포토리소그래피 공정을 통해 기판의 소자 형성층에 포토레지스트 선 패턴을 형성하는 단계, 상기 포토레지스트 선 패턴의 크기 축소화를 통해 나노미터 선폭의 포토레지스트 선 패턴을 형성하는 단계, 및 상기 나노미터 선폭의 포토레지스트 선 패턴을 마스크층으로 하여 상기 소자 형성층으로 실리콘 나노선을 형성하는 단계를 포함한다.
URI
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Appears in Collections:
KIST Patent > 2010
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