무기 박막 형성 방법 및 그를 위한 스퍼터링 시스템

Title
무기 박막 형성 방법 및 그를 위한 스퍼터링 시스템
Authors
김재경나대석박정수최준환
Issue Date
2010-10-28
Publisher
한국과학기술연구원
Abstract
유기전자소자의 수분 및 산소 투과를 차단하고 가스 배리어 특성을 향상시킬 수 있는 무기 박막 형성 방법 및 그를 위한 스퍼터링 시스템이 개시된다. 본 발명에 의하면, 유기 고분자 보호층이 형성된 기판을 진공 챔버 내의 기판 홀더부 위에 위치시키고, 진공 챔버의 내부를 진공상태로 유지한다. 그리고 진공 챔버 내에 프라즈마화 할 가스를 공급한다. 이후 박막 증착을 위한 적어도 하나의 마그네트론 증착원 각각에 RF 전력 및 주파수를 가변하여 인가함으로써 플라즈마 이온들을 발생시켜, 기판의 유기 고분자 보호층 위에, 각 마그네트론 증착원으로부터 스퍼터링되는 무기물의 플라즈마 이온들의 증착율을 달리하여 기판의 표면에 이온주입시켜 무기 박막 보호층을 형성한다.
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KIST Patent > 2010
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