폴리플루오로계실세스퀴옥산 및 그의 제조방법

Title
폴리플루오로계실세스퀴옥산 및 그의 제조방법
Authors
곽순종구종민마성원백경열이응찬최승석홍순만황승상
Issue Date
2009-06-05
Publisher
한국과학기술연구원
Abstract
본 발명은 플루오로계탄화수소 측쇄기를 갖는 폴리플루오로계실세스퀴옥산 및 그의 제조방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 폴리플루오로계실세스퀴옥산은 측쇄기로 플루오로계탄화수소를 함유하여 유전율이 낮으므로 반도체의 층간 절연막으로 사용될 수 있으며, 광통신 영역의 파장(1330~1550 nm)을 흡수하지 않아 광 손실률을 크게 줄일 수 있으므로 광 도파로 재료 또는 광섬유의 보호 코팅재 및 발수 코팅제 등의 재료로 사용될 수 있다. 본 발명에 따른 폴리플루오로계실세스퀴옥산은 플루오로계 실란 단량체의 가수분해물을 특정 촉매와 반응온도 조건하에서 직접 축중합하는 방법에 의해 합성된다. 이 방법에 의하면, 분자량 조절이 용이하여 분자량 분포가 작은 폴리플루오로계실세스퀴옥산을 합성할 수 있다. 또한 고 규칙적인 사다리 구조의 폴리플루오로계실세스퀴옥산을 선택적으로 합성할 수 있으며, 중합 과정 중에 다양한 광경화기의 도입이 가능하여 폴리플루오로계실세스퀴옥산에 광경화 특성을 부여할 수 있다.
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KIST Patent > 2009
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