디플루오로페닐 유도체를 갖는 신규한 옥사졸리디논 유도체또는 이의 약학적으로 허용가능한 염, 이의 제조방법 및 이를 유효성분으로 하는 항생제 조성물

Title
디플루오로페닐 유도체를 갖는 신규한 옥사졸리디논 유도체또는 이의 약학적으로 허용가능한 염, 이의 제조방법 및 이를 유효성분으로 하는 항생제 조성물
Authors
오창현조정혁
Issue Date
2008-09-16
Publisher
한국과학기술연구원
Abstract
본 발명은 하기 화학식 1로 표시되는 디플루오로페닐 유도체를 갖는 신규한 옥사졸리디논 유도체 또는 이의 약학적으로 허용가능한 염, 이의 제조방법 및 이를 유효성분으로 하는 항생제 조성물에 관한 것으로, 본 발명에 따른 조성물에 유효성분으로 함유되는 옥사졸리디논 유도체 및 이의 약학적으로 허용가능함 염은 헤모필루스 인플루엔자(Haemophilus influenza), 비병원성 포도상구균(Coagulase negative staphylococi) 등을 포함하는 그람양성균 및 반코마이신 내성 장내구균(VRE) 등을 포함하는 내성 균주들에 대하여 유의한 항균 활성을 나타내므로, 항생제로서 유용하게 사용될 수 있다. [화학식 1] . (상기 화학식 1에서, R은 본 명세서에서 정의한 바와 같다.) 옥사졸리디논, 리네졸리드, 스피로[2,4]헵탄, MRSA, 반코마이신내성균
URI
Go to Link
Appears in Collections:
KIST Patent > 2008
Files in This Item:
There are no files associated with this item.
Export
RIS (EndNote)
XLS (Excel)
XML


qrcode

Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.

BROWSE