선형적 유전특성을 나타내는 유전체 박막 조성물

Title
선형적 유전특성을 나타내는 유전체 박막 조성물
Authors
최지원최원국윤석진
Issue Date
2008-08-08
Publisher
한국과학기술연구원
Abstract
본 발명은 (Ba,Sr)TiO3(BSTO) 유전체 박막에 주석산화물(SnO2)이 연속조성 확산법에 의해 첨가되어 일반식 Ba(1-x)SrxTi(1-y)SnyO3(BSTSO)로 표시되는(여기서 몰분율 x는 0.06≤x≤0.82의 범위이고, 몰분율 y는 0.05≤y≤0.28의 범위임) 선형적 유전특성을 갖는 유전체 박막 조성물에 관한 것이다. 본 발명에 따른 유전체 박막 조성물은 BSTO의 비선형적 유전특성이 SnO2의 첨가로 인해 선형적으로 전환됨으로써 인가되는 전계에 따른 캐패시턴스(capacitance)의 변화가 거의 없고 전자 터널링(electron tunnelling)을 방지하기에 충분한 두께에서도 요구되는 캐패시턴스 값을 나타낼 수 있는 고유전율의 유전상수를 유지하면서 유전손실은 매우 낮고 기존의 유전체 소재인 SiO2와 같은 상유전(paraelectric) 특성을 나타내는 것을 특징으로 한다.
URI
Go to Link
Appears in Collections:
KIST Patent > 2008
Files in This Item:
There are no files associated with this item.
Export
RIS (EndNote)
XLS (Excel)
XML


qrcode

Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.

BROWSE