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dc.contributor.author이상렬-
dc.contributor.author임재현-
dc.date.accessioned2015-12-04T08:27:37Z-
dc.date.available2015-12-04T08:27:37Z-
dc.date.issued20080711-
dc.identifier.other1020080067793-
dc.identifier.urihttp://kpat.kipris.or.kr/kpat/biblioa.do?method=biblioFrame&applno=1020080067793en_US
dc.identifier.urihttp://pubs.kist.re.kr/handle/201004/52993-
dc.description.abstract본 발명은 금속 산화물 반도체 박막 등을 성장시킴에 있어서 활성 상태의 질소 원자를 불순물 공급원으로 제공함으로써 불순물 도핑 효율을 극대화시킬 수 있는 유전체 장벽 방전을 이용한 펄스 레이저 증착장치 및 방법 그리고 이에 의해 형성된 금속 산화물 박막에 관한 것으로서, 본 발명에 따른 유전체 장벽 방전을 이용한 펄스 레이저 증착장치는 유전체 장벽 방전장치 및 펄스 레이저 증착기의 조합으로 이루어지며, 상기 유전체 장벽 방전장치는, 마이크로 방전이 일어나는 공간을 제공하는 유전체 장벽 튜브와, 상기 유전체 장벽 튜브 내에 구비되며, 상기 유전체 장벽 튜브와 일정 거리 이격된 위치에 배치되는 금속 전극과, 상기 유전체 방전 튜브에 해리하고자 하는 기체를 공급하는 기체 공급부 및 상기 금속 전극에 전원을 인가하는 RF 발생수단을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.-
dc.languageKO-
dc.publisher한국과학기술연구원-
dc.title유전체 장벽 방전을 이용한 펄스 레이저 증착장치 및 방법그리고 이에 의해 형성된 금속 산화물 박막-
dc.typePatent-
Appears in Collections:
KIST Patent > 2008
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