저온용 냉매 조성물

Title
저온용 냉매 조성물
Authors
김홍곤이병권임종성
Issue Date
2003-12-11
Publisher
한국과학기술연구원
Abstract
본 발명은 지구의 오존층을 파괴하는 것으로 알려진 R-502를 대체하기 위한 저온용 냉매 조성물에 관한 것으로, 지구의 오존층을 파괴하는 CFC나 HCFC를 함유하지 않은 새로운 냉매 조성물을 제공하는 것이 목적이다. 상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 냉매 조성물은, 디플루오로메탄 (CH2F2, 이하 HFC-32라 함)과; 1,1,1-트리플루오로에탄 (CH3CF3, 이하 HFC-143a라 함)과; 사이클로프로판 (C3H6, 이하 RC-270라 함) 또는 프로판 (C3H8, 이하 R-290라 함) 중에서 선택되는 하나의 화합물로 이루어진다.
URI
Go to Link
Appears in Collections:
KIST Patent > 2003
Files in This Item:
There are no files associated with this item.
Export
RIS (EndNote)
XLS (Excel)
XML


qrcode

Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.

BROWSE