대면적 홀로그래픽 회절격자 생성방법 및 장치

Title
대면적 홀로그래픽 회절격자 생성방법 및 장치
Authors
강병권김선호박윤호송종한양정수우덕하이석
Issue Date
2000-12-19
Publisher
한국과학기술연구원
Abstract
감광제는 빛의 강도에 의해 감광되는 정도가 다르기 때문에 일정한 강도의 빛을 일정시간 조사하여야만 원하는 형태의 감광 패턴을 얻을 수 있다.종래 레이저 등의 광원에서 방출되는 빛은 강도가 공간상에서 가우시안 분포를 갖을 수 밖에 없으며 렌즈를 투과하였을 때도 마찬가지로 가우시안 분포를 갖게 되어, 광원을 감광제에 조사하면 감광 패턴은 조사된 광원의 강도 분포에 따라 달라지게 되어 균일한 영역이 매우 좁은 영역으로 제한될 수밖에 없었다.본 발명은 이러한 광원의 분포를 가우시안 형태에서 균일한 강도 분포로 변경하기 위하여 가우시안 분포의 특정 지점에 평탄화 광 강도 기준점을 두어 이에 맞추어 역가우시안 필터에 투과시킴으로써 광원의 강도 분포를 평탄화하는 방법에 관한 것으로, 작은 구경의 광학계를 이용하여서도 렌즈의 유효면적 이하의 대면적 회절격자를 제작할 수 있어 종래의 방법에서 사용되는 대구경 렌즈 및 거울 등의 광학계 비용을 절감할 수 있어 매우 경제적이다.홀로그래픽 격자, 가우시안 빔, 균일 빔, 역 가우시안 분포도, ND 필터, 자외선 레이저.
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KIST Patent > 2000
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