금속이온을 포함하는 플라즈마를 이용한 금속박막 형성방법

Title
금속이온을 포함하는 플라즈마를 이용한 금속박막 형성방법
Authors
김태곤송종한양정수최원국황정남
Issue Date
2000-08-11
Publisher
한국과학기술연구원
Abstract
금속이온을 포함하는 플라즈마를 이용한 금속박막 형성방법에 관하여 개시한다. 본 발명은, 금속이온이 포함된 플라즈마에 기판을 노출시키되, 상기 기판에 수∼수십 kV대의 음의 고전압을 인가함으로써 상기 기판 표면에 금속이온주입에 따른 동적 이온선 혼합 효과에 의한 계면 혼합층을 형성시킨 후 금속박막을 증착시키는 것을 특징으로 한다. 본 발명에 의하면, 종래와 같이 접착력의 개선을 위한 별도의 전처리 공정을 행하지 않고도 단 한번의 스텝(step)으로 접착력이 개선된 금속박막을 형성시킬 수 있다. 플라즈마, 계면 혼합층, 동적 이온선 혼합, 구리, 금, 은
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Appears in Collections:
KIST Patent > 2000
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