실리콘막의두께조절방법및장치

Title
실리콘막의두께조절방법및장치
Issue Date
1992-09-08
Publisher
한국과학기술연구원
Abstract
본 발명은 비동방성 식각을 이용한 실리콘막의 제조시 식각용 액내에서 실리콘막의 두께를 비파괴적으로 관찰 및 조절하는 실리콘막의 두께 조절방법 및 장치에 관한 것이다.본 발명은 회로부가 미리 형성된 실리콘 기판을 식각용액중에서 식각하여 실리콘막을 형성함에 있어 회로부가 식각용액으로부터 보호되도록 하는 한편 식각에 의해 형성된 실리콘막의 두께 관찰조절을 함에 따라 실리콘막에 대한 정밀한 두께 조절이 가능하다는 이점이 있다.
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KIST Patent > ETC
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