복합막형기체분리막및저온플라즈마처리법에의한그의제조방법

Title
복합막형기체분리막및저온플라즈마처리법에의한그의제조방법
Issue Date
1992-07-29
Publisher
한국과학기술연구원
Abstract
다공성 막 지지체, 이 지지체 위에 증착된 실리콘 화합물의 능동층 및 중합성 유기 불소 화합물의 플라즈마 표면 처리층으로 구성되는 복합막형 기체 분리막 및 그 제조 방법에 제공된다. 이 복합막형 기체 분리막을 사용하면 산소 투과 속도 및 산소에 대한 선택도를 동시에 증가시킬 수 있다.
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KIST Patent > ETC
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