적층세라믹캐패시터의제조방법

Title
적층세라믹캐패시터의제조방법
Issue Date
1991-09-11
Publisher
한국과학기술연구원
Abstract
본 발명을 세라믹 유전체층 사이에 형성된 가공층 내부로 용융금속을 주입하여 내부전극을 형성하는 주입전극법에 의한 적층 세라믹 캐패시터의 제조방법에 관한 것으로, 특히 내부전극 형성용 용융금속을 가공층 내부로 주입하기전에 세라믹 유전체의 양측면에 은이나 백금/은의 페이스트를 도포하여 소부함으로써 일차 외부전극을 형성한 후에 기공층으로 부터 세라믹 유전체의 외부표면을 향해 형성된 주입통로를 통하여 용융금속의 주입을 행하여 내부전극을 형성하는 방법에 관한 것이다.본 발명의 주입통로를 통한 내부전극 주입방식은 종래의 다공성 침투층을 통한 방법에 비해 비교적 낮은 압력하에서도 신속하게 용융금속의 주입이 수행되는 장점이 있다.
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KIST Patent > ETC
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