이중모드플라즈마이온주입장치및이를사용한표면개질방법

Title
이중모드플라즈마이온주입장치및이를사용한표면개질방법
Issue Date
1994-11-25
Publisher
한국과학기술연구원
Abstract
이중 모드의 고전압 펄스를 사용하는 플라즈마 이온 주입 장치와 이 장치를 이용한 물체의 표면개질방법이 제공된다.
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KIST Patent > ETC
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