전자빔리소그래피장치및이를이용한다층정렬방법

Title
전자빔리소그래피장치및이를이용한다층정렬방법
Issue Date
1994-06-01
Publisher
한국과학기술연구원
Abstract
본 발명품은 다층 집적회로 제조용 마스크(Mask)를 제작시 사용하는 전자빔 리소그래피(lithography) 장치 및 다층의 공정 레벨 관련 패턴을 정렬하기 위한 방법에 관한 것입니다.본 발명품은 전자 현미경에 후방 산란 전자를 검지하고 그 검지 신호를 처리하기 위한 부가적인 전자회로 장치를 사용하지 않고, 전자 현미경에 간단한 기능만을 추가한 전자빔 리소그래피의 다층 정렬 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.본 발명에 따른 다층 집적회로 제조용 마스크를 제작하는데 사용되는 전자 현미경을 이용한 전자빔 리소그래피 장치는, 전자빔을 차단하기 위한 전자빔 차단기를 포함하는 전자 현미경, 아날로그 디지털 변환기, 및 상기 아날로그 디지털 변환기에 의해 변환된 디지털 신호를 저장 및 출력하기 위한 컴퓨터를 포함하여 구성된다.
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KIST Patent > ETC
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