화학증착장치용히터

Title
화학증착장치용히터
Issue Date
1994-04-27
Publisher
한국과학기술연구원
Abstract
본 발명은 화학증착(Chemical Vapor Deposition)장치의 가판가열을 위한 히터구조에 관한 것이다. 본 발명의 화학증착 장치용 히터는 언판상의 히터 판위에 평면상으로 절곡 형성된 몰리브덴 재질의 히터선이 지지되고 히터판의 아래쪽과 측면부에는 히터선으로부터 발생된 열의 방출을 방지하기 위한 방열판이 설치된 구성으로 이루어져있다. 본 발명의 히터구조는 히터 선이 와이어 형태이므로 그 모양과 크기를 임의호 변화시킬 수 있고 대부분의 가스에 대해서도 안정적일 뿐 아니라 제작비용이 싸다는 장점이 있다.
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KIST Patent > ETC
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