램프가열및회전식기판을이용한박막제조방법및장치

Title
램프가열및회전식기판을이용한박막제조방법및장치
Issue Date
1993-12-21
Publisher
한국과학기술연구원
Abstract
본 발명은 금속, 반도체, 유전체박막등을 증착할 때 램프가열 장치와 회전식 기판을 이용하여 동일 진공반응로 내에서 증착과 열처리를 연속적으로 수행할 수 있도록 한 박막제조방법 및 장치에 관한 것이다. 본 발명은 반응기의 일측에 설치된 램프가 열장치의 빛을 이용하여 시편의 온도를 증착에 필요한 온도에 맞춘 후 램프가열장치의 반대편에 위치하는 전구체 확산판을 통해 시편측으로 반응물질을 분사시켜 시편의 표면에 박막의 증착이 이루어지도록 한 다음 회전식 기판을 구동하여 시편을 180° 회전시킨 상태에서 램프가열장치의 빛이 박막에 직접 쪼이도록 해서 박막의 열처리를 수행하도록 구성되어 있다. 본 발명은 박막의 증착공정 및 열처리 단계가 단일 진공반응기중에서 연속적으로 수행됨에 의해 증착된 박막의 결정성과 물리적 특성의 향상이 가능하고 증착 및 열처리의 반복수해에 의한 다층구조의 박막증착이 가능하다는 장점이 있다.
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KIST Patent > ETC
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