레이저리소그라피장비를이용한네가티브마스크제작방법

Title
레이저리소그라피장비를이용한네가티브마스크제작방법
Issue Date
1993-06-19
Publisher
한국과학기술연구원
Abstract
본 발명은 레이저 리소그파피 장비를 이용한 네가티브 마스크 제작방법에 관한 것으로, 종래의 네가티브패턴 제작은 정확한 제어나 좋은 대비를 얻기 위해 AZ5200 포토레지스트 시리즈가 사용된다. 그러나 이는 일반적인 포토레지스트보다 값이 비싸고, 제조공정시 가벼운 열처리과정과 역열처리과정을 거쳐야 하므로 제작과정이 복잡하며 열처리조건이 상당한 영향을 받아 제작에 많은 어려움이 있으며, 0℃에서 보관해야 하므로 보관상에 어려움이 있는 문제점이 있었다. 본 발명은 이러한 문제점을 해결하기 위하여 네가티브 패턴 제작시 사용되는 포토레지스트를 일반적인 포지티브 포토레지스트를 사용할 수 있어 가격이 저렴할 뿐 아니라 역열처리 과정등 까다로운 조건없이도 쉽게 제작할 수 있고, 마스크 제작시간의 단축과 폐곡선 및 특수형태의 마스크 제작에 유용하게 사용할 수 있도록 한 것이다.
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KIST Patent > ETC
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