반복사용이가능한기판을이용한자립다이아몬드막의제조방법

Title
반복사용이가능한기판을이용한자립다이아몬드막의제조방법
Issue Date
1993-04-09
Publisher
한국과학기술연구원
Abstract
다이아몬드막의 합성이 이루어지는 기판의 형상을 제어하여, 기판상에 합성된 다이아몬드막과 기판간에 별도의 분리 공정을 요함 없이 냉각 과정에서 발생하는 수축량의 차이에 의해 기판과 다이아몬드막간의 자발적인 분리가 이루어지도록 하여 기판의 반복 사용이 가능하도록 한다.W, Mo 또는 Ta 등의 고융점 금속이나 그 합금 또는 WC-Co 합금중 선택된 재질오 된 기판(1)에 다이아몬드막 합성시 또는 합성 후 예리한 모서리 부분에서 다이아몬드막 내부의 응력 집중이 발생하여 다이아몬드막의 파괴가 발생하는 것을 방지하기 위해 상면(1a) 외주연부의 모서리(1b)를 원호상 곡면이 되도록 기판의 상면과 측면에 걸쳐 기상 합성법(직류 글로 방전 CVD, 고온 필라멘트 CVD, EA CVD, 마이크로파 CVD, 직류 아크 제트 또는 산소-아세틸렌 토치법)으로 다이아몬드막(2)을 일체로 형성시킨 후, 냉각 과정에서 기판과 다이아몬드막간의 수축량 차이에 의해 기판에 손상을 가하지 않은 상태로 다이아몬드 막을 분리해 냄으로써 간편하게 자립막을 제조하는 한편, 기판의 반복 사용이 가능해 진다.
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KIST Patent > ETC
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