희생적 식각 마스크를 이용한 나노 구조물 제조방법

Title
희생적 식각 마스크를 이용한 나노 구조물 제조방법
Issue Date
2012-07-26
Publisher
한국과학기술연구원
Abstract
기판상에, 제1 반도체 합성물층, 반도체 구조층, 제2 반도체 합성물층 및 반도체 양자점층을 순차적으로 형성하는 단계; 상기 반도체 양자점층의 양자점이 응집되도록, 상기 반도체 양자점층을 열처리하는 단계; 및 상기 응집된 양자점을 마스크로 이용하여 식각하는 단계를 포함하는 나노 구조물 제조방법이 개시된다.
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Appears in Collections:
KIST Patent > 2012
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