차세대 EUV 반도체 포토마스크 검사를 위한 CSM(Coherent Scattering Microscope) 시스템 개발

Title
차세대 EUV 반도체 포토마스크 검사를 위한 CSM(Coherent Scattering Microscope) 시스템 개발
Authors
김용태전영민박한용김용수성하민김점술이승범조현우이주한
Keywords
EUV; CSM
Issue Date
2016-04
Publisher
차세대 리소그래피 학술대회
Citation
, NO F2-IV-2
URI
http://pubs.kist.re.kr/handle/201004/59319
Appears in Collections:
KIST Publication > Conference Paper
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