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특정 파장의 광원 및 반응성 가스를 이용하여 대상물의 표면을 평탄화하는 방법 및 장치

Author

강구민; 한일기; 김춘근; 김영환; 고형덕; 권석준

Assignee

한국과학기술연구원

Regitration Date

2019-11-22

Registration No.

10-2049806

Application Date

2018-04-25

Application No.

2018-0047899

Country

KO

URI

https://pubs.kist.re.kr/handle/201004/76221

Appears in Collections:

KIST Patent > Others

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