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산화막 제거방법과 이 방법에 사용된 스퍼터링장치, 산화막 제거방법을 이용한 전자소자의 제조방법 및 산화막 제거방법이 적용되어 형성된 전자소자

Author

이경일; 민병철; 신경호

Assignee

한국과학기술연구원

Regitration Date

2017-04-05

Registration No.

10-1725848

Application Date

2010-10-27

Application No.

10-2010-0105509

Country

KO

URI

https://pubs.kist.re.kr/handle/201004/77566

Appears in Collections:

KIST Patent > Others

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