텅스텐의 저압화학증착 (LPCVD) 시 기체유량이 증착층의 선택성과 면저항에 미치는 영향 .

Title
텅스텐의 저압화학증착 (LPCVD) 시 기체유량이 증착층의 선택성과 면저항에 미치는 영향 .
Authors
금동화류창섭이정중주승기
Issue Date
1989-01
Publisher
대한금속학회지
Citation
v. 27, no. 11, 995-1001
URI
http://pubs.kist.re.kr/handle/201004/8740
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KIST Publication > Article
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