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활성산소 종의 발생속도가 제어되는 임플란트 및 이를 이용한 활성산소 종의 발생 제어 방법

Author

옥명렬; 박지민; 김유찬; 석현광; 박지헌; 전호정; 서현선; 정가영; 박종웅; 한형섭

Assignee

한국과학기술연구원

Regitration Date

2021-05-11

Registration No.

10-2252691

Application Date

2019-06-05

Application No.

10-2019-0066915

Country

KO

URI

https://pubs.kist.re.kr/handle/201004/94682

Appears in Collections:

KIST Patent > 2019

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