반도체 차세대 미세가공기술과 포토레지스트 감광재료의 발전

Title
반도체 차세대 미세가공기술과 포토레지스트 감광재료의 발전
Authors
안광덕
Keywords
미세가공기술; 광미세가공기술; G-선; I-선
Issue Date
2000-01
Publisher
화학세계
Citation
VOL 40, NO 9, 52-59
URI
http://pubs.kist.re.kr/handle/201004/9476
Appears in Collections:
KIST Publication > ETC
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