Jung Da Woon Chong Eu Gene Kim Seung Han Chun Yoon Soo Lee Sang Yeol 2024-01-12T23:06:07Z 2024-01-12T23:06:07Z 2021-09-29 https://pubs.kist.re.kr/handle/201004/99047 English The characteristics changing of HfInZnO TFT with process conditions by RF sputter 스퍼터를 이용한 공정 조건에 따른 HfInZnO TFT 특성변화 Conference 2 한국전기전자재료학회 추계학술대회, pp.34 한국전기전자재료학회 추계학술대회 34 34 KO