<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="no"?>
<dublin_core schema="dc">
<dcvalue element="contributor" qualifier="author">Shin,&#x20;DS</dcvalue>
<dcvalue element="contributor" qualifier="author">Lee,&#x20;HN</dcvalue>
<dcvalue element="contributor" qualifier="author">Kim,&#x20;YT</dcvalue>
<dcvalue element="contributor" qualifier="author">Park,&#x20;YK</dcvalue>
<dcvalue element="contributor" qualifier="author">Choi,&#x20;IH</dcvalue>
<dcvalue element="date" qualifier="accessioned">2024-01-19T17:08:44Z</dcvalue>
<dcvalue element="date" qualifier="available">2024-01-19T17:08:44Z</dcvalue>
<dcvalue element="date" qualifier="created">2022-03-07</dcvalue>
<dcvalue element="date" qualifier="issued">1999</dcvalue>
<dcvalue element="identifier" qualifier="issn">0272-9172</dcvalue>
<dcvalue element="identifier" qualifier="uri">https:&#x2F;&#x2F;pubs.kist.re.kr&#x2F;handle&#x2F;201004&#x2F;118482</dcvalue>
<dcvalue element="description" qualifier="abstract">Pt&#x2F;SrBi2Ta2O9(SBT)&#x2F;CeO2&#x2F;Si&#x20;(MFIS)&#x20;structures&#x20;were&#x20;investigated&#x20;for&#x20;observing&#x20;the&#x20;change&#x20;of&#x20;electrical&#x20;properties&#x20;and&#x20;morphology&#x20;of&#x20;interface&#x20;of&#x20;Pt&#x2F;SBT&#x20;after&#x20;post-annealing&#x20;of&#x20;Pt&#x20;top&#x20;electrodes.&#x20;The&#x20;morphology&#x20;of&#x20;Pt&#x2F;SBT&#x20;interface&#x20;became&#x20;smooth&#x20;and&#x20;Bi&#x20;oxide&#x20;was&#x20;formed&#x20;at&#x20;the&#x20;bottom&#x20;of&#x20;Pt&#x20;top&#x20;electrode&#x20;after&#x20;post-annealing&#x20;Pt&#x20;top&#x20;electrode.&#x20;In&#x20;order&#x20;to&#x20;describe&#x20;the&#x20;origin&#x20;of&#x20;these&#x20;changes,&#x20;Bi-oxide&#x2F;Pt&#x2F;SiO2&#x2F;Si&#x20;structure&#x20;was&#x20;investigated&#x20;with&#x20;annealing&#x20;temperatures&#x20;about&#x20;the&#x20;reaction&#x20;between&#x20;Ei&#x20;oxide&#x20;and&#x20;Pt.&#x20;We&#x20;can&#x20;describe&#x20;that&#x20;the&#x20;smooth&#x20;interface&#x20;of&#x20;Pt&#x2F;SBT&#x20;and&#x20;the&#x20;consumption&#x20;of&#x20;metallic&#x20;Bi,&#x20;which&#x20;the&#x20;reason&#x20;why&#x20;electrical&#x20;properties&#x20;were&#x20;drastically&#x20;improved,&#x20;is&#x20;induced&#x20;by&#x20;the&#x20;melting&#x20;of&#x20;Pt-Bi&#x20;alloys&#x20;and&#x20;formation&#x20;of&#x20;Bi-oxide&#x20;after&#x20;post-annealing&#x20;Pt&#x20;top&#x20;electrode.</dcvalue>
<dcvalue element="language" qualifier="none">English</dcvalue>
<dcvalue element="publisher" qualifier="none">MATERIALS&#x20;RESEARCH&#x20;SOCIETY</dcvalue>
<dcvalue element="title" qualifier="none">The&#x20;phase&#x20;transition&#x20;of&#x20;Bi-Pt&#x20;alloys&#x20;at&#x20;the&#x20;interface&#x20;of&#x20;Pt&#x2F;SrBi2Ta2O9&#x20;and&#x20;its&#x20;effect&#x20;on&#x20;interface&#x20;roughness</dcvalue>
<dcvalue element="type" qualifier="none">Conference</dcvalue>
<dcvalue element="description" qualifier="journalClass">1</dcvalue>
<dcvalue element="identifier" qualifier="bibliographicCitation">Symposium&#x20;on&#x20;Ferroelectric&#x20;Thin&#x20;Films&#x20;VII,&#x20;v.541,&#x20;pp.173&#x20;-&#x20;178</dcvalue>
<dcvalue element="citation" qualifier="title">Symposium&#x20;on&#x20;Ferroelectric&#x20;Thin&#x20;Films&#x20;VII</dcvalue>
<dcvalue element="citation" qualifier="volume">541</dcvalue>
<dcvalue element="citation" qualifier="startPage">173</dcvalue>
<dcvalue element="citation" qualifier="endPage">178</dcvalue>
<dcvalue element="citation" qualifier="conferencePlace">US</dcvalue>
<dcvalue element="citation" qualifier="conferencePlace">BOSTON,&#x20;MA</dcvalue>
<dcvalue element="citation" qualifier="conferenceDate">1998-11-30</dcvalue>
<dcvalue element="relation" qualifier="isPartOf">FERROELECTRIC&#x20;THIN&#x20;FILMS&#x20;VII</dcvalue>
<dcvalue element="identifier" qualifier="wosid">000081716100024</dcvalue>
<dcvalue element="identifier" qualifier="scopusid">2-s2.0-0032592361</dcvalue>
<dcvalue element="type" qualifier="docType">Proceedings&#x20;Paper</dcvalue>
</dublin_core>
