류미이 권세라 송진동 2024-01-20T13:33:20Z 2024-01-20T13:33:20Z 2021-09-06 2012-11 1225-8822 https://pubs.kist.re.kr/handle/201004/128680 Migration-enhanced molecular beam epitaxy법을 이용하여 GaAs 기판에 성장한 InAs 양자점(quantum dots: QDs)의 광학적 특성을 PL (photoluminescence)과 time-resolved PL을 이용하여 분석하였다. 시료 온도, 여기 광의 세기, 발광 파장에따른 InAs/GaAs QDs (QD1)과 In0.15Ga0.85As 캡층을 성장한 InAs/GaAs QDs (QD2)의 발광특성을 연구하였다. QD2의 PL 피크는 QD1의 PL 피크보다 장파장에서 나타났으며, 이것은 InGaAs 캡층의 In이 InAs 양자점으로 확산되어 양자점의 크기가증가한 것으로 설명된다. 10 K에서 측정한 QD1과 QD2의 PL 피크인 1,117 nm와 1,197 nm에서 PL 소멸시간은 각각 1.12 ns 와 1.00 ns이고, 발광파장에 따른 PL 소멸시간은 PL 피크 근처에서 거의 일정하게 나타났다. QD2의 PL 소멸시간이 QD1보다짧은 것은 QD2의 양자점이 커서 파동함수 중첩이 향상되어 캐리어 재결합이 증가한 때문으로 설명된다. Korean 한국진공학회 InAs/GaAs 양자점의 발광특성에 대한 InGaAs 캡층의 영향 Influence of InGaAs Capping Layers on the Properties of InAs/GaAs Quantum Dots Article 10.5757/JKVS.2012.21.6.342 2 한국진공학회지, v.21, no.6, pp.342 - 347 한국진공학회지 21 6 342 347 N kci ART001715325 InAs Quantum dots Photoluminescence Time-resolved photoluminescence InAs 양자점 포토루미네션스 시간분해 포토루미네션스