<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="no"?>
<dublin_core schema="dc">
<dcvalue element="contributor" qualifier="author">Kim,&#x20;Chang&#x20;Young</dcvalue>
<dcvalue element="contributor" qualifier="author">Kim,&#x20;Seung&#x20;Hyun</dcvalue>
<dcvalue element="contributor" qualifier="author">Navarnathavan,&#x20;R.</dcvalue>
<dcvalue element="contributor" qualifier="author">Choi,&#x20;Chi&#x20;Kyu</dcvalue>
<dcvalue element="contributor" qualifier="author">Jeung,&#x20;Won&#x20;Young</dcvalue>
<dcvalue element="date" qualifier="accessioned">2024-01-21T00:03:11Z</dcvalue>
<dcvalue element="date" qualifier="available">2024-01-21T00:03:11Z</dcvalue>
<dcvalue element="date" qualifier="created">2021-08-31</dcvalue>
<dcvalue element="date" qualifier="issued">2007-12-03</dcvalue>
<dcvalue element="identifier" qualifier="issn">0040-6090</dcvalue>
<dcvalue element="identifier" qualifier="uri">https:&#x2F;&#x2F;pubs.kist.re.kr&#x2F;handle&#x2F;201004&#x2F;133890</dcvalue>
<dcvalue element="description" qualifier="abstract">We&#x20;report&#x20;on&#x20;the&#x20;influence&#x20;of&#x20;substrate&#x20;temperature&#x20;on&#x20;SiOC(-H)&#x20;thin&#x20;films&#x20;deposited&#x20;on&#x20;p-type&#x20;Si(100)&#x20;substrates&#x20;by&#x20;plasma&#x20;enhanced&#x20;chemical&#x20;vapor&#x20;deposition&#x20;(PECVD)&#x20;with&#x20;dimethoxydimethylsilane&#x20;(DMDMS)&#x20;and&#x20;oxygen&#x20;gas&#x20;as&#x20;precursors.&#x20;The&#x20;films&#x20;were&#x20;deposited&#x20;at&#x20;various&#x20;substrate&#x20;temperatures&#x20;with&#x20;a&#x20;radio&#x20;frequency&#x20;(rf)&#x20;power&#x20;of&#x20;500&#x20;Wand&#x20;working&#x20;pressure&#x20;of&#x20;700&#x20;mTorr.&#x20;Fourier&#x20;transform&#x20;infrared&#x20;(FTIR)&#x20;spectroscopy&#x20;was&#x20;used&#x20;in&#x20;the&#x20;absorbance&#x20;mode&#x20;over&#x20;the&#x20;range&#x20;of&#x20;400&#x20;to&#x20;4000&#x20;cm(-1)&#x20;which&#x20;showed&#x20;the&#x20;various&#x20;bonding&#x20;configurations&#x20;such&#x20;as&#x20;Si-O-Si(C),&#x20;Si-CH3,-OH,&#x20;and&#x20;CHn,&#x20;bonds&#x20;in&#x20;the&#x20;SiOC(-H)&#x20;films.&#x20;The&#x20;X-ray&#x20;photoelectron&#x20;spectroscopy&#x20;(XPS)&#x20;was&#x20;used&#x20;to&#x20;study&#x20;the&#x20;binding&#x20;energies&#x20;of&#x20;Si-C,&#x20;SiO-C-3,&#x20;SiO2-C-2,&#x20;SiO3-C,&#x20;Si-O-2,&#x20;C-C,&#x20;C-H&#x20;and&#x20;C-O&#x20;bonds&#x20;in&#x20;the&#x20;SiOC(-H)&#x20;films&#x20;as&#x20;a&#x20;function&#x20;of&#x20;the&#x20;substrate&#x20;temperature.&#x20;The&#x20;dielectric&#x20;constant&#x20;of&#x20;the&#x20;SiOC(-H)&#x20;films&#x20;was&#x20;measured&#x20;using&#x20;a&#x20;metal&#x20;insulator&#x20;semiconductor&#x20;(MIS,&#x20;Al&#x2F;SiOC(-H)&#x2F;p-Si)&#x20;structure&#x20;at&#x20;1&#x20;MHz&#x20;frequency.&#x20;The&#x20;lowest&#x20;dielectric&#x20;constant&#x20;of&#x20;the&#x20;films&#x20;deposited&#x20;at&#x20;room&#x20;temperature&#x20;was&#x20;2.22&#x20;and&#x20;was&#x20;achieved&#x20;with&#x20;DNMMS&#x2F;O-2&#x20;precursor.&#x20;(C)&#x20;2007&#x20;Elsevier&#x20;B.V.&#x20;All&#x20;rights&#x20;reserved.</dcvalue>
<dcvalue element="language" qualifier="none">English</dcvalue>
<dcvalue element="publisher" qualifier="none">ELSEVIER&#x20;SCIENCE&#x20;SA</dcvalue>
<dcvalue element="subject" qualifier="none">LOW-DIELECTRIC-CONSTANT</dcvalue>
<dcvalue element="subject" qualifier="none">CHEMICAL-VAPOR-DEPOSITION</dcvalue>
<dcvalue element="subject" qualifier="none">THIN-FILMS</dcvalue>
<dcvalue element="subject" qualifier="none">COMPOSITE&#x20;FILMS</dcvalue>
<dcvalue element="subject" qualifier="none">MICROSTRUCTURE</dcvalue>
<dcvalue element="title" qualifier="none">Characteristics&#x20;of&#x20;low-k&#x20;SiOC(-H)&#x20;films&#x20;deposited&#x20;at&#x20;various&#x20;substrate&#x20;temperature&#x20;by&#x20;PECVD&#x20;using&#x20;DMDMS&#x2F;O-2&#x20;precursor</dcvalue>
<dcvalue element="type" qualifier="none">Article</dcvalue>
<dcvalue element="identifier" qualifier="doi">10.1016&#x2F;j.tsf.2007.06.097</dcvalue>
<dcvalue element="description" qualifier="journalClass">1</dcvalue>
<dcvalue element="identifier" qualifier="bibliographicCitation">THIN&#x20;SOLID&#x20;FILMS,&#x20;v.516,&#x20;no.2-4,&#x20;pp.340&#x20;-&#x20;344</dcvalue>
<dcvalue element="citation" qualifier="title">THIN&#x20;SOLID&#x20;FILMS</dcvalue>
<dcvalue element="citation" qualifier="volume">516</dcvalue>
<dcvalue element="citation" qualifier="number">2-4</dcvalue>
<dcvalue element="citation" qualifier="startPage">340</dcvalue>
<dcvalue element="citation" qualifier="endPage">344</dcvalue>
<dcvalue element="description" qualifier="journalRegisteredClass">scie</dcvalue>
<dcvalue element="description" qualifier="journalRegisteredClass">scopus</dcvalue>
<dcvalue element="identifier" qualifier="wosid">000252037500044</dcvalue>
<dcvalue element="identifier" qualifier="scopusid">2-s2.0-36048975328</dcvalue>
<dcvalue element="relation" qualifier="journalWebOfScienceCategory">Materials&#x20;Science,&#x20;Multidisciplinary</dcvalue>
<dcvalue element="relation" qualifier="journalWebOfScienceCategory">Materials&#x20;Science,&#x20;Coatings&#x20;&amp;&#x20;Films</dcvalue>
<dcvalue element="relation" qualifier="journalWebOfScienceCategory">Physics,&#x20;Applied</dcvalue>
<dcvalue element="relation" qualifier="journalWebOfScienceCategory">Physics,&#x20;Condensed&#x20;Matter</dcvalue>
<dcvalue element="relation" qualifier="journalResearchArea">Materials&#x20;Science</dcvalue>
<dcvalue element="relation" qualifier="journalResearchArea">Physics</dcvalue>
<dcvalue element="type" qualifier="docType">Article;&#x20;Proceedings&#x20;Paper</dcvalue>
<dcvalue element="subject" qualifier="keywordPlus">LOW-DIELECTRIC-CONSTANT</dcvalue>
<dcvalue element="subject" qualifier="keywordPlus">CHEMICAL-VAPOR-DEPOSITION</dcvalue>
<dcvalue element="subject" qualifier="keywordPlus">THIN-FILMS</dcvalue>
<dcvalue element="subject" qualifier="keywordPlus">COMPOSITE&#x20;FILMS</dcvalue>
<dcvalue element="subject" qualifier="keywordPlus">MICROSTRUCTURE</dcvalue>
<dcvalue element="subject" qualifier="keywordAuthor">low-k&#x20;material</dcvalue>
<dcvalue element="subject" qualifier="keywordAuthor">SiOC(-H)&#x20;films</dcvalue>
<dcvalue element="subject" qualifier="keywordAuthor">DMDMS</dcvalue>
<dcvalue element="subject" qualifier="keywordAuthor">PECVD</dcvalue>
<dcvalue element="subject" qualifier="keywordAuthor">FTIR</dcvalue>
<dcvalue element="subject" qualifier="keywordAuthor">XPS</dcvalue>
</dublin_core>
