조남기 송진동 최원준 이정일 전헌수 2024-01-21T03:04:53Z 2024-01-21T03:04:53Z 2021-09-06 2006-05 2288-6559 https://pubs.kist.re.kr/handle/201004/135538 디지털 합금 (digital­alloy) 성장방법을 사용한 AlGaAs층을 이용하여 1.3㎛ vertical cavity surface emitting laser (VCSEL)에 사용될 수 있는 AlGaAs/GaAs distributed Bragg reflector (DBR)를 분자선 에피탁시 (molecular beam epitaxy) 방법을 통해 제작하였다. 3인치 1/4 크기의 기판에 디지털 합금 AlGaAs층을 사용한 DBR을 성장하고 기판 여러 부분에서의 반사율을 측정하여 각 부분 간의 반사율 편차가 0.35%이내임을 확인하였다. TEM 사진을 통한 계면분석을 통해 디지털 합금 AlGaAs층의 조성과 두께가 균일함을 확인하였는데, 이는 디지털 합금 AlGaAs층의 성장시 기판 표면의 온도가 불균일하더라도 크게 영향을 받지 않음을 보여준다. 이를 통해 DBR의 균일성에 따라 소자의 특성에 큰 영향을 받는 InAs 양자점을 활성층으로 사용하는 VCSEL의 수율을 향상시키는데 디지털 합금 AlGaAs층을 이용한 DBR이 응용될 수 있음을 보였다. Korean 한국진공학회 디지털 합금 AlGaAs층을 이용하여 제작된 GaAs/AlGaAs DBR의 균일도 향상 Formation of Porous Si by Indirect Electrode Anodization Article 2 한국진공학회지, v.15, no.3, pp.280 - 286 한국진공학회지 15 3 280 286 N kci ART001009632 디지털 합금 DBR 균일도 VCSEL Digitalalloy DBR Uniformity VCSEL