남형도 송진동 최원준 이정일 최정우 양해석 Cho, Woon Jo 2024-01-21T03:34:36Z 2024-01-21T03:34:36Z 2021-09-06 2006-03 2288-6559 https://pubs.kist.re.kr/handle/201004/135695 InGaAs/GaAs 양자 우물 내에 삽입된 InAs 양자점으로 구성된 5층의 흡수층과 Al0.3Ga0.7As/GaAs SL (superlattice) 암전류 장벽층을 갖는 QDIP (quantum dot infrared photodetector) 구조에 대한 수소 RF 플라즈마에 의한 수소화 처리가 QDIP의 전기적, 광학적 특성에 미치는 영향에 대해 연구하였다. RF 플라즈마 수소화 처리는 양자점의 밴드구조에 영향을 미치지 않았으며 Al0.3Ga0.7As/GaAs SL 암전류 장벽층 내의 결함 제거 및 QDIP 구조 내 결함 생성을 동시에 유도함으로써 QDIP의 전기적 특성 향상은 수소 플라즈마 처리시간의 함수임을 알았다. 20 W의 수소 RF 플라즈마를 사용했을 때, 10분간의 플라즈마 조사가 가장 좋은 전기적 특성을 제공하여 높은 암전류 때문에 원시료에서는 측정할 수 없었던 광전류 신호를 측정할 수 있었다. Korean 한국진공학회 수소화 처리된 InAs/GaAs 양자점 적외선 수광소자의 전기적 특성 Electrical Property in InAs/GaAs Quantum Dot Infrared Photodetector with Hydrogen Plasma Treatment Article 2 한국진공학회지, v.15, no.2, pp.216 - 222 한국진공학회지 15 2 216 222 N kci ART001001295 Quantum dot Quantum dot infrared photodetector Hydrogen plama treatment 양자점 양자점 적외선 수광소자 수소화처리