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<dcvalue element="contributor" qualifier="author">Jung,&#x20;YC</dcvalue>
<dcvalue element="contributor" qualifier="author">An,&#x20;SY</dcvalue>
<dcvalue element="contributor" qualifier="author">Suh,&#x20;SH</dcvalue>
<dcvalue element="contributor" qualifier="author">Choi,&#x20;DK</dcvalue>
<dcvalue element="contributor" qualifier="author">Kim,&#x20;JS</dcvalue>
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<dcvalue element="description" qualifier="abstract">The&#x20;semiconductor-passivating&#x20;layer&#x20;interface,&#x20;as&#x20;well&#x20;as&#x20;the&#x20;dielectric&#x20;properties&#x20;of&#x20;the&#x20;passivants,&#x20;plays&#x20;an&#x20;important&#x20;role&#x20;in&#x20;HgCdTe&#x20;based&#x20;photodiodes.&#x20;ZnS&#x20;is&#x20;a&#x20;commonly&#x20;used&#x20;surface&#x20;passivant&#x20;for&#x20;HgCdTe.&#x20;This&#x20;study&#x20;examined&#x20;the&#x20;effects&#x20;of&#x20;sulfidation&#x20;on&#x20;the&#x20;HgCdTe&#x20;surface&#x20;and&#x20;interfacial&#x20;characteristics&#x20;of&#x20;metal&#x2F;ZnS&#x2F;HgCdTe&#x20;structures.&#x20;The&#x20;ZnS&#x20;layer&#x20;was&#x20;deposited&#x20;by&#x20;thermal&#x20;evaporation&#x20;after&#x20;sulfidation.&#x20;The&#x20;interfacial&#x20;properties&#x20;of&#x20;the&#x20;metal&#x20;insulator&#x20;semiconductor&#x20;(MIS)&#x20;structures&#x20;were&#x20;determined.&#x20;A&#x20;comparison&#x20;of&#x20;an&#x20;untreated&#x20;capacitor&#x20;and&#x20;a&#x20;sulfide&#x20;treated&#x20;MIS&#x20;capacitor&#x20;showed&#x20;that&#x20;the&#x20;fixed&#x20;charge&#x20;density&#x20;(untreated&#x20;6.37&#x20;x&#x20;10(11),&#x20;treated&#x20;3.2&#x20;x&#x20;10(11)&#x20;cm(-2))&#x20;and&#x20;slow&#x20;state&#x20;density&#x20;(untreated&#x20;5.5&#x20;x&#x20;10(11),&#x20;treated&#x20;7.5&#x20;x&#x20;10(10)&#x20;cm(-2))&#x20;were&#x20;2&#x20;and&#x20;7&#x20;times&#x20;lower&#x20;in&#x20;the&#x20;treated&#x20;than&#x20;in&#x20;the&#x20;untreated&#x20;specimens.&#x20;Sulfidation&#x20;results&#x20;in&#x20;a&#x20;decrease&#x20;in&#x20;the&#x20;concentration&#x20;of&#x20;contaminants&#x20;originating&#x20;from&#x20;the&#x20;native&#x20;oxide-covered&#x20;HgCdTe&#x20;substrates.&#x20;This&#x20;reduction&#x20;may&#x20;be&#x20;due&#x20;to&#x20;the&#x20;formation&#x20;of&#x20;S-S&#x20;or&#x20;II-S&#x20;bonds&#x20;at&#x20;the&#x20;surface&#x20;layer.&#x20;These&#x20;bonds&#x20;might&#x20;act&#x20;as&#x20;barriers&#x20;against&#x20;native&#x20;oxide&#x20;formation&#x20;when&#x20;(NH4)(2)S-x-treated&#x20;HgCdTe&#x20;substrates&#x20;are&#x20;exposed&#x20;to&#x20;air.&#x20;(c)&#x20;2004&#x20;Published&#x20;by&#x20;Elsevier&#x20;B.V.</dcvalue>
<dcvalue element="language" qualifier="none">English</dcvalue>
<dcvalue element="publisher" qualifier="none">ELSEVIER&#x20;SCIENCE&#x20;SA</dcvalue>
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<dcvalue element="title" qualifier="none">Ammonium&#x20;sulfide&#x20;treatment&#x20;of&#x20;HgCdTe&#x20;substrate&#x20;and&#x20;its&#x20;effects&#x20;on&#x20;electrical&#x20;properties&#x20;of&#x20;ZnS&#x2F;HgCdTe&#x20;heterostructure</dcvalue>
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<dcvalue element="identifier" qualifier="doi">10.1016&#x2F;j.tsf.2004.12.057</dcvalue>
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<dcvalue element="identifier" qualifier="bibliographicCitation">THIN&#x20;SOLID&#x20;FILMS,&#x20;v.483,&#x20;no.1-2,&#x20;pp.407&#x20;-&#x20;410</dcvalue>
<dcvalue element="citation" qualifier="title">THIN&#x20;SOLID&#x20;FILMS</dcvalue>
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