김태곤 송종한 이택휘 채근화 황현미 전기영 이재용 정광호 황정남 이준식 이기봉 2024-01-21T10:03:32Z 2024-01-21T10:03:32Z 2021-09-06 2002-10 1598-5385 https://pubs.kist.re.kr/handle/201004/139173 수직자기이방성을 가지는 Cu/Ni/Cu(002)/Si(100) 자성박막을 전자빔 증발법을 이용하여 초고진공에서 증착하였다. 증착 시 RHEED로 측정 한 결과 실리콘 기판 위에 자성박막이 적층성장되었음을 확인하였다. 이러한 Cu/Ni/Cu(001)/Si(100) 자성박막에 1 MeV C 이온을 이온선량 2×1016 ions/cm2 로 조사한 후 MOKE로 자기이력곡선을 측정한 결과 이온 조사에 의해 자화용이축이 수직에서 수평방향으로 변화되었음을 확인하였다. 포항 방사광가속기를 이용하여 X-선 반사도와 Grazing Incident X-ray diffraction(GID) 분석을 수행한 결과 첫번째 Cu층과 Ni층 사이의 계면은 이온 조사 후 거칠기는 증가하였으나, Cu와 Ni의 전자밀도의 대비는 더욱 명확해졌다. 그리고, 증착 후 Cu와 Ni 원자의 격자 상수 차이에 의해 Ni 층이 가지고 있었던 strain은 이온 조사 후 완화되었음을 알 수 있었다. 끝으로, 이온조사 시 자성특성 변화와 직접적인 관계가 있는 strain 완화, 계면 혼합층(혹은 새로운 상) 등이 생성되는 기구를 탄성충돌 및 비탄성충돌에 의한 열화학적 구동력으로 규명하였다. 한국자기학회 이온 조사된 Cu/Ni/Cu(001)/Si 자성박막에 있어서 X-ray reflectivity를 이용한 계면 연구 Interface study of ion irradiated Cu/Ni/Cu(001)/Si thin film by X-ray reflectivity Article 2 한국자기학회지, v.12, no.5, pp.184 - 188 한국자기학회지 12 5 184 188 kci other ART000890646 perpendicular magnetic anisotropy ion irradiaton Ni/Cu X-ray reflectivity heat of formation 수직자기이방성 이온조사 Ni/Cu X-선 반사도 혼합열 perpendicular magnetic anisotropy ion irradiaton Ni/Cu X-ray reflectivity heat of formation