윤진국 유재은 맹선재 정병성 김재수 최종술 2024-01-21T16:37:01Z 2024-01-21T16:37:01Z 2022-01-10 1998-10 https://pubs.kist.re.kr/handle/201004/142807 대한금속학회 Kinetics of chemical vapor deposition of silicon on Ni substrate from a gas mixture of SiCl4 and H2 SiCl4-H2 반응가스에 의한 Ni 기판위에서 Si의 화학증착속도론 Article 3 대한금속학회지, v.36, no.10, pp.1655 - 1662 대한금속학회지 36 10 1655 1662 kinetics