이창우 고민경 오환원 우상록 윤성로 김용태 박영균 고석중 2024-01-21T17:38:19Z 2024-01-21T17:38:19Z 2022-01-10 1998-01 1225-0562 https://pubs.kist.re.kr/handle/201004/143373 RF power dependence of stresses in plasma deposited low resistive tungsten films for VLSI devices 고집적 소자에 적용되는 저저항 텅스텐 박막에서 응력의 RF power의존성 Article 2 한국재료학회지 = Korean Journal of Materials Research, v.8, no.11, pp.977 - 981 한국재료학회지 = Korean Journal of Materials Research 8 11 977 981 diffusion barrier tungsten VLSI PECVD stress