장홍규 김기환 최성창 최두진 최원국 손용배 고석근 정형진 2024-01-21T20:06:36Z 2024-01-21T20:06:36Z 2022-01-10 1996-01 https://pubs.kist.re.kr/handle/201004/144738 Cu films on Si(100) by partially ionized beam deposition 부분 이온빔 증착법으로 제작한 silicon(100) 기판위의 구리 박막 Article 3 J. ISHM-Korea, The microelectronics society, v.3, no.2, pp.17 - ? J. ISHM-Korea, The microelectronics society 3 2 17 ?