염상섭 한영기 D. J. Choi 왕채현 2024-01-21T20:11:16Z 2024-01-21T20:11:16Z 2022-01-10 1996-01 https://pubs.kist.re.kr/handle/201004/144818 Dependences of PbTiO//3 thin films on Ti bath temperature and deposition temperature. MOCVD 법에 의한 Ti bath 온도와 기판온도 변화에 따른 박막의 증착특성 = Article 3 요업학회지 = Journal of the Korean ceramic society, v.v. 33, no.no. 4, pp.371 - 378 요업학회지 = Journal of the Korean ceramic society v. 33 no. 4 371 378 thin films