김은규 손맹호 한영기 왕채현 염상섭 임종수 민석기 2024-01-21T20:31:45Z 2024-01-21T20:31:45Z 2022-01-10 1995-11 1013-7009 https://pubs.kist.re.kr/handle/201004/144931 Electrical property of TiO2 dielectric thin films grown on n-type InP(100) substrates by low-pressure MOCVD 저압 MOCVD법으로 n형 InP 위에 성장시킨 TiO2 유전체박막의 전기적 특성 Article 2 응용물리, v.8, no.6, pp.630 - 634 응용물리 8 6 630 634 low pressure MOCVD thin films TiO2 InP MOCVD