윤진국 변지영 이강욱 이종무 김재수 2024-01-21T21:40:04Z 2024-01-21T21:40:04Z 2022-01-10 1994-03 https://pubs.kist.re.kr/handle/201004/145622 Growth rate of MoSi2 layer formed by CVD of Si on Mo substrate and oxidation behavior of MoSi2/Mo couple Si의 화학증착에 의한 MoSi2층의 성장속도 및 MoSi2/Mo 쌍의 산화특성에 관한 연구 Article 3 대한금속학회지 = Journal of the Korean inst. of met. & mater., v.32, no.3, pp.313 - 320 대한금속학회지 = Journal of the Korean inst. of met. & mater. 32 3 313 320 CVD MoSi//2 layer SiCl//4/H//2 hot wall oxidation