이동헌 조용수 이월인 이전국 정형진 2024-01-21T21:43:43Z 2024-01-21T21:43:43Z 2022-01-10 1994-01 https://pubs.kist.re.kr/handle/201004/145682 Characterization of nitrogen-doped TiO2 thin films prepared by metalorganic chemical vapor deposition 유기금속 화학 기상증착법으로 실리콘 기판위에 증착된 질소치환 TiO2 박막의 특성분석 Article 3 한국요업학회지, v.31, no.12, pp.1577 - 1587 한국요업학회지 31 12 1577 1587 MOCVD TiO2 질소치환