배귀남 박승오 이춘식 명현국 신흥태 2024-01-21T22:43:02Z 2024-01-21T22:43:02Z 2022-01-10 1993-01 1229-6422 https://pubs.kist.re.kr/handle/201004/146218 Korean 대한설비공학회 Wafer surface scanner 를 이용한 반도체 웨이퍼상의 입자 침착속도의 측정 Measurement of particle deposition velocity toward a horizontal semiconductor wafer using a wafer surface scanner. Article 2 설비공학 논문집, v.5, no.2, pp.130 - 140 설비공학 논문집 5 2 130 140 N other particle deposition velocity 입자의 침착속도 semiconductor wafer 반도체 웨이퍼 convection 대류 diffusion 확산 sedimentation 중력침강