박재현 이정중 금동화 2024-01-21T22:45:46Z 2024-01-21T22:45:46Z 2022-01-10 1993-01 1225-8024 https://pubs.kist.re.kr/handle/201004/146264 Korean 한국표면공학회 SiH4 를 이용한 텅스텐 화학증착시 압력증가가 증착에 미치는 영향 The Effect of Pressure Increase on the Deposition of Tungsten by CVD using SiH4 Article 2 한국표면공학회지, v.26, no.1, pp.3 - 9 한국표면공학회지 26 1 3 9 N other