안광덕 채규호 황인동 박서호 2024-01-21T23:05:05Z 2024-01-21T23:05:05Z 2022-01-10 1992-11 https://pubs.kist.re.kr/handle/201004/146363 Modification of PMMA for a deep UV photoresist : 1. Photodegradation of P(MMA-co-BOXM-co-TBMA). 원자외선 포토레지스트로서 PMMA 의 개질에 관한 연구 : 1. P(MMA-co-BOXM-co-TBMA) 의 광분해반응 = Article 3 폴리머 = Polymer(Korea), v.v. 16, no.no. 6, pp.669 - 679 폴리머 = Polymer(Korea) v. 16 no. 6 669 679 deep UV photoresist photodegradation of poly(methyl methacrylate) butanedione monooxime methacrylate terpolymer photosensitivity